发布单位:苏州特斯特电子科技有限公司 发布时间:2022-8-6
等离子开封设备plasmaetch是一个---性的气体为基础的半导体蚀刻系统。采用以前---见过的应用微波气体化学基团为各向同性腐蚀。plasmaetch腐蚀大部分样本大小,封装类型和引线键合的类型。无论它是一个传统的金丝样品或者该样品设有铜或银导线,plasmaetch都提供了的蚀刻。等离子开封设备是为快速蚀刻模具化合物,聚酰芯片---研发的,无需攻击敏感的接线便可将芯片开封。
功能:利用不同材料的等离子体具有较好的选择性,能够---的去除器件内部的塑封料而不损伤焊线或其他金属结构。
应用:可用于表面未作保护的芯片的开封,或对那些对酸十分敏感的产品的环氧材料的去除。可有效应用于激光开封后的芯片的表面处理。
优点:只对环氧材料进行去除,不会对金属焊线和金属布线造成损伤,具有较强的选择性,可以一次进行多颗样品的处理,从而有效地提率。
激光开封机特点:
1、对铜引线封装有---的开封效果。
2、对复杂样品的开封---方便。
3、可重复性、一致性---。
4、电脑控制开封形状、位置、大小、时间等,操作便利。
5、对环境及人体污染伤害较小,安全性高。
6、几乎没有耗材,使用成本很低。
7、体积较小,容易摆放。
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